中国DUV光刻机突破吓崩美股，AI芯片泡沫成下跌主因

美东时间7月27日，美股半导体板块重挫，费城半导体指数一度暴跌超5%，最终收跌2.23%。阿斯麦（ASML）跌5.8%，英伟达（NVDA）跌4.99%，市值蒸发近2500亿美元。消息面上，上海国资背景企业被曝制造浸没式DUV光刻机，预计2026年交付用于28nm工艺。但市场恐慌根源实为AI投资泡沫隐忧——英伟达与SK集团、OpenAI合作规模超7500亿美元，形成融资-购芯片闭环，高盛指出标普500剔除AI后已上涨。中国光刻机仍处早期，EUV距量产尚远，华尔街恐慌更多源于自身拥挤交易反思。